L'hexaméthyldisiloxane ou HMDS est un composé organique de formule semi-développée O[Si(CH3)3]2. C'est un liquide incolore et volatil qui est utilisé comme solvant et réactif. Il est issu de l'hydrolyse du chlorure de triméthylsilyle. Cette molécule est un prototype d'un éther silylique et peut être considérée comme une sous-unité du polydiméthylsiloxane. L'hexaméthyldisiloxane est principalement utilisé comme source du groupe fonctionnel triméthylsilyle, -Si(CH3)3 en synthèse organique. Par exemple, sous catalyse acide, il convertit les alcools et les acides carboxyliques en leur éther et ester triméthylsilyliques correspondants.
Le HMDS est utilisé comme un étalon interne pour calibrer les déplacements chimiques en spectroscopie NMR 1H. Il est plus facile à manipuler car moins volatil que le tétraméthylsilane qui est l'étalon habituel et n'affiche aussi qu'un singulet proche de 0 ppm.
Le HMDS a un pouvoir de solvatation encore plus bas que celui d'alcanes. Il est donc parfois employé pour cristalliser des composés très lipophiles.

L'orthosilicate de tétraéthyle (TEOS) est un composé chimique de formule Si(OCH2CH3)4 ou plus simplement Si(OEt)4; l'abréviation TEOS (pour tetraethylorthosilicate) est généralement utilisée dans l'industrie du sol-gel, où il est intensivement étudié. La majorité des études en sol-gel pour des sols de silices ont utilisé ce produit comme précurseur.

Le TEOS est généralement produit par alcoolyse du tétrachlorure de silicium SiCl4 dans de l'éthanol CH3CH2OH :

SiCl4 + 4 CH3CH2OH → Si(OCH2CH3)4 + 4 HCl.

Il est utilisé pour la réticulation de silicones et possède certaines applications comme précurseur du dioxyde de silicium SiO2 dans l'industrie des semi-conducteurs6 dans le cadre d'une réaction sol-gel. La propriété remarquable du TEOS est en effet de former du SiO2 par simple hydrolyse en libérant de l'éthanol CH3CH2OH :

Si(OCH2CH3)4 + 2 H2O → SiO2 + 4 CH3CH2OH.

Un plasma à pression atmosphérique (ou plasma à PA ou plasma froid) est le nom donné à une catégorie spéciale de plasma pour lequel la pression approche celle de l’atmosphère.
Le plasma à pression atmosphérique marque une nette différence avec le plasma basse et haute pression. En effet, contrairement à ces derniers aucune enceinte de traitement n'est nécessaire. Ce type de plasma peut donc être utilisé directement sur ligne de production, évitant ainsi l'utilisation de vide qui est extrêmement onéreuse.