Accueil
Résultat de la recherche
3 résultat(s) recherche sur le tag 'deposition'
Ajouter le résultat dans votre panier Affiner la recherche Générer le flux rss de la recherche
Partager le résultat de cette recherche
A double-blind randomized vehicle-controlled clinical trial investigating the effect of ZnPTO dose on the scalp vs. antidandruff efficacy and antimycotic activity / P. Bailey in INTERNATIONAL JOURNAL OF COSMETIC SCIENCE, Vol. 25, N° 4 (08/2003)
[article]
Titre : A double-blind randomized vehicle-controlled clinical trial investigating the effect of ZnPTO dose on the scalp vs. antidandruff efficacy and antimycotic activity Type de document : texte imprimé Auteurs : P. Bailey, Auteur ; Clare Arrowsmith, Auteur ; K. Darling, Auteur ; J. Dexter, Auteur ; J. Eklund, Auteur ; A. Lane, Auteur ; C. Little, Auteur ; B. Murray, Auteur ; A. Scott, Auteur ; A. Williams, Auteur ; D. Wilson, Auteur Année de publication : 2003 Article en page(s) : p. 183-188 Note générale : Bibliogr. Langues : Anglais (eng) Tags : Dandruff Malassezia Zinc pyrithione Deposition Antidandruff Scalp Index. décimale : 668.5 Parfums et cosmétiques Résumé : Les pellicules sont un problème courant rencontré par environ 30 % de la population mondiale. Les rapports de la littérature relatifs à son traitement par des shampooings antipelliculaires mentionnent couramment le taux d'actif inclus dans la formule. Nous proposons cependant un paramètre plus important, vis à vis de l'activité antipelliculaire, c'est à dire le taux d'actif délivré par le shampooing sur le cuir chevelu. Cet article décrit les résultats de deux études conçues pour déterminer les types de relation entre le taux de Zn PTO déposé sur le cuir chevelu et l'état de celui ci qui en résulte. Une étude randomisée, contrôlée par véhicule, a comparé 3 shampooings (la base véhicule non traitante, un shampooing à faible déposition de Zn PTO et un shampooing à fort taux de dépôt de Zn PTO). Elle a été conduite au Royaume Uni sur 53 volontaires, sujets pelliculaires à Dermite Séborrhéique faible ou modérée. Les deux shampooings contenant le Zn PTO ont été trouvés significativement supérieurs dans leur activité antipelliculaire au véhicule. De plus, le shampooing à fort dépôt était significativement plus efficace que celui à faible dépôt, tant dans l'activité antipelliculaire qu'anti-mycosique. En conclusion, la performance antipelliculaire et anti-mycosique de shampooings à base de Zn PTO semble hautement dépendante du taux d'actif délivré sur le cuir chevelu. De plus, un choix judicieux des paramètres de formulation du shampooing antipelliculaire peut amener à accroître les taux de délivrance de l'actif sans avoir à augmenter celui ci au sein de la formule. DOI : 10.1046/j.1467-2494.2003.00183.x En ligne : https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1046/j.1467-2494.2003.00183.x Format de la ressource électronique : Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=4738
in INTERNATIONAL JOURNAL OF COSMETIC SCIENCE > Vol. 25, N° 4 (08/2003) . - p. 183-188[article]Réservation
Réserver ce document
Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité 003999 - Périodique Bibliothèque principale Documentaires Disponible Effect of C/B ratio in reactants on low-pressure CVD boron-doped carbon deposited from a BCI3-C3H6-H2 mixture / Yongsheng Liu in JOURNAL OF COATINGS TECHNOLOGY AND RESEARCH, Vol. 6, N° 4 (12/2009)
[article]
Titre : Effect of C/B ratio in reactants on low-pressure CVD boron-doped carbon deposited from a BCI3-C3H6-H2 mixture Type de document : texte imprimé Auteurs : Yongsheng Liu, Auteur ; Litong Zhang, Auteur ; Laifei Cheng, Auteur ; Wenbin Yang, Auteur ; Yongdong Xu, Auteur ; Qinfeng Zeng, Auteur Année de publication : 2009 Article en page(s) : p. 509-515 Note générale : Bibliogr. Langues : Américain (ame) Tags : Boron-doped carbon Low-pressure Chemical vapor deposition C/B ratio Index. décimale : 667.9 Revêtements et enduits Résumé : Propylene was used to fabricate boron-doped carbon coatings by low-pressure chemical vapor deposition. The effects of carbon/boron (C/B) ratio in reactants on the deposition rate, morphologies, and bonding states of the deposits were investigated. Deposition rate increased with increasing C/B ratio, when C/B ratio was less than 4.0. Then, deposition rate decreased with increasing C/B ratio. The maximum rate was 500 nm/h. SEM results showed that cross section morphologies and thickness of deposits were influenced by C/B ratio. Morphologies were compact and not-delaminated with a low C/B ratio, however nanoscale delamination occurred in the deposits with a high C/B ratio. The infiltration characteristic was also influenced by the C/B ratio. The suitable C/B ratio was 1.0–2.0 for infiltration in a T300 carbon bundle. XPS results showed that carbon content is major in the deposits with all C/B ratios. The boron contents decreased and carbon contents increased with increasing C/B ratio. B-sub-C and BC2O were main bonding states. The total contents of B-sub-C and BC2O were above 60.0 at.% with all C/B ratios. DOI : 10.1007/s11998-008-9128-2 En ligne : https://link.springer.com/content/pdf/10.1007%2Fs11998-008-9128-2.pdf Format de la ressource électronique : Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=7694
in JOURNAL OF COATINGS TECHNOLOGY AND RESEARCH > Vol. 6, N° 4 (12/2009) . - p. 509-515[article]Réservation
Réserver ce document
Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité 011845 - Périodique Bibliothèque principale Documentaires Disponible Solid-state reactions of silicon carbide and chemical vapor deposited niobium / Wang Yiguang in JOURNAL OF COATINGS TECHNOLOGY AND RESEARCH, Vol. 6, N° 3 (09/2009)
[article]
Titre : Solid-state reactions of silicon carbide and chemical vapor deposited niobium Type de document : texte imprimé Auteurs : Wang Yiguang, Auteur ; Liu Qiaomu, Auteur ; Litong Zhang, Auteur ; Laifei Cheng, Auteur Année de publication : 2009 Article en page(s) : p. 413-417 Note générale : Bibliogr. Langues : Américain (ame) Tags : Chemical vapor deposition Thermodynamics Solid-state reactions Niobium Silicon carbide Index. décimale : 667.9 Revêtements et enduits Résumé : Niobium films were deposited on silicon carbide by chemical vapor deposition using niobium chloride and hydrogen at a temperature range of 900–1300°C. The solid-state reactions between the deposited niobium and silicon carbide matrix were studied by examining the obtained films using X-ray diffraction and energy dispersion spectroscopy. The results indicated that niobium silicides could be formed at the beginning, which blocked further reactions between carbon and niobium to form niobium carbides. When the deposition temperature was increased, silicon would diffuse outward, which allowed the formation of niobium carbides. The reaction process and mechanism are discussed based on the thermodynamics and kinetics. DOI : 10.1007/s11998-008-9129-1 En ligne : https://link.springer.com/content/pdf/10.1007%2Fs11998-008-9129-1.pdf Format de la ressource électronique : Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=6123
in JOURNAL OF COATINGS TECHNOLOGY AND RESEARCH > Vol. 6, N° 3 (09/2009) . - p. 413-417[article]Réservation
Réserver ce document
Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité 011503 - Périodique Bibliothèque principale Documentaires Disponible