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Partager le résultat de cette rechercheMorphological investigation of chemical peel on photodamaged facial skin / M. H. El Samahy in INTERNATIONAL JOURNAL OF COSMETIC SCIENCE, Vol. 20, N° 5 (10/1998)
Titre : Morphological investigation of chemical peel on photodamaged facial skin Type de document : texte imprimé Auteurs : M. H. El Samahy, Auteur ; N. Ramzy, Auteur ; M. M. Ghoz, Auteur Année de publication : 1998 Article en page(s) : p. 269-282 Note générale : Bibliogr. Langues : Anglais (eng) Tags : Chemical peel Photodamaged skin Ultrastructural features Index. décimale : 668.5 Parfums et cosmétiques Résumé : Chemical peeling involves the topical application of a wounding agent with the goal of effecting an organized regeneration of the skin. The histological and ultrastructural features of actinic- and age-related damage include structural abnormalities that disrupt normal epidermal and dermal architecture. In the present study, five patients with actinically damaged skin underwent an enhanced medium depth peel using 70 % glycolic acid and 35 % trichloroacetic acid. Biopsy specimens were taken before the peel, and 3 months after the peel for histological and electron microscopic examination. Clinical resolution of actinic damage corresponded with restoration of epidermal polarity. Characteristic histological and ultrastructural features of the skin after peeling include markedly decreased epidermal intracytoplasmic vacuoles, decreased elastic fibres, increased activated fibroblasts and organized parallel arrays of collagen fibrils. We conclude that electron microscopic studies after a medium depth peel of photodamaged skin reveal more profound changes than those seen histologically. DOI : 10.1046/j.1467-2494.1998.181650.x En ligne : https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1046/j.1467-2494.1998.181650.x Format de la ressource électronique : Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=5006
in INTERNATIONAL JOURNAL OF COSMETIC SCIENCE > Vol. 20, N° 5 (10/1998) . - p. 269-282[article]Réservation
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Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité 003975 - Périodique Bibliothèque principale Documentaires Disponible
Titre : Solid-state reactions of silicon carbide and chemical vapor deposited niobium Type de document : texte imprimé Auteurs : Wang Yiguang, Auteur ; Liu Qiaomu, Auteur ; Litong Zhang, Auteur ; Laifei Cheng, Auteur Année de publication : 2009 Article en page(s) : p. 413-417 Note générale : Bibliogr. Langues : Américain (ame) Tags : Chemical vapor deposition Thermodynamics Solid-state reactions Niobium Silicon carbide Index. décimale : 667.9 Revêtements et enduits Résumé : Niobium films were deposited on silicon carbide by chemical vapor deposition using niobium chloride and hydrogen at a temperature range of 900–1300°C. The solid-state reactions between the deposited niobium and silicon carbide matrix were studied by examining the obtained films using X-ray diffraction and energy dispersion spectroscopy. The results indicated that niobium silicides could be formed at the beginning, which blocked further reactions between carbon and niobium to form niobium carbides. When the deposition temperature was increased, silicon would diffuse outward, which allowed the formation of niobium carbides. The reaction process and mechanism are discussed based on the thermodynamics and kinetics. DOI : 10.1007/s11998-008-9129-1 En ligne : https://link.springer.com/content/pdf/10.1007%2Fs11998-008-9129-1.pdf Format de la ressource électronique : Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=6123
in JOURNAL OF COATINGS TECHNOLOGY AND RESEARCH > Vol. 6, N° 3 (09/2009) . - p. 413-417[article]Réservation
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Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité 011503 - Périodique Bibliothèque principale Documentaires Disponible
Titre : Effect of C/B ratio in reactants on low-pressure CVD boron-doped carbon deposited from a BCI3-C3H6-H2 mixture Type de document : texte imprimé Auteurs : Yongsheng Liu, Auteur ; Litong Zhang, Auteur ; Laifei Cheng, Auteur ; Wenbin Yang, Auteur ; Yongdong Xu, Auteur ; Qinfeng Zeng, Auteur Année de publication : 2009 Article en page(s) : p. 509-515 Note générale : Bibliogr. Langues : Américain (ame) Tags : Boron-doped carbon Low-pressure Chemical vapor deposition C/B ratio Index. décimale : 667.9 Revêtements et enduits Résumé : Propylene was used to fabricate boron-doped carbon coatings by low-pressure chemical vapor deposition. The effects of carbon/boron (C/B) ratio in reactants on the deposition rate, morphologies, and bonding states of the deposits were investigated. Deposition rate increased with increasing C/B ratio, when C/B ratio was less than 4.0. Then, deposition rate decreased with increasing C/B ratio. The maximum rate was 500 nm/h. SEM results showed that cross section morphologies and thickness of deposits were influenced by C/B ratio. Morphologies were compact and not-delaminated with a low C/B ratio, however nanoscale delamination occurred in the deposits with a high C/B ratio. The infiltration characteristic was also influenced by the C/B ratio. The suitable C/B ratio was 1.0–2.0 for infiltration in a T300 carbon bundle. XPS results showed that carbon content is major in the deposits with all C/B ratios. The boron contents decreased and carbon contents increased with increasing C/B ratio. B-sub-C and BC2O were main bonding states. The total contents of B-sub-C and BC2O were above 60.0 at.% with all C/B ratios. DOI : 10.1007/s11998-008-9128-2 En ligne : https://link.springer.com/content/pdf/10.1007%2Fs11998-008-9128-2.pdf Format de la ressource électronique : Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=7694
in JOURNAL OF COATINGS TECHNOLOGY AND RESEARCH > Vol. 6, N° 4 (12/2009) . - p. 509-515[article]Réservation
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Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité 011845 - Périodique Bibliothèque principale Documentaires Disponible
Titre : Analysis of fluoride in toothpastes on the Belgian market Type de document : texte imprimé Auteurs : M. Borremans, Auteur ; L. Goeyens, Auteur ; E. Vrindts, Auteur ; J. Meunier, Auteur ; P. van Den Meerssche, Auteur ; J. van Loco, Auteur Année de publication : 2008 Article en page(s) : p. 145-152 Note générale : Bibliogr. Langues : Anglais (eng) Tags : Anion Chromatography Conductivity Detection after chemical suppression Fluoride toothpastes Index. décimale : 668.5 Parfums et cosmétiques Résumé : Nous avons développé une méthode pour la détermination quantitative du fluorure de sodium (NaF), du monofluorophosphate (SMFP) de sodium et de fluorure d'amine (AmF) dans les dentifrices du marché Belge. Les échantillons sont mis en suspension dans de l'eau et le dosage est effectué par chromatographie anionique avec une détection conductimétrique après une suppression chimique. La méthode décrite est une méthode HPLC isocratique facile et fiable pour la détermination du contenu de fluorure soluble total dans les dentifrices. La répétabilité analytique et la reproductibilité, les effets de matrices et la limite de décision de 3 différents dentifrices contenant NaF, SMFP et AmF à une concentration proche de la limite de 0.15 g % total F permise sont déterminés. Tous les échantillons analysés sont conformes à la directive 76/768/CE et ne dépassent pas la limite de 0.15 g %. DOI : 10.1111/j.1468-2494.2008.00425.x En ligne : http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1111/j.1468-2494.2008.00425.x Format de la ressource électronique : Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=4573
in INTERNATIONAL JOURNAL OF COSMETIC SCIENCE > Vol. 30, N° 2 (04/2008) . - p. 145-152[article]Réservation
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Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité 010014 - Périodique Bibliothèque principale Documentaires Disponible 010057 - Périodique Bibliothèque principale Documentaires Disponible
Titre : La stabilité chimique et les effets antimicrobiens des systèmes conservateurs dans les cosmétiques : une corrélation directe Type de document : texte imprimé Auteurs : C. A. Benassi, Auteur ; R. Cerini, Auteur ; A. Bettero, Auteur ; Alessandra Semenzato, Auteur ; A. Rettore, Auteur Année de publication : 1988 Article en page(s) : p. 231-239 Note générale : Bibliogr. Langues : Anglais (eng) Tags : Preservative Chemical stability Microbiological activity Prevan Bronopol Germall 115 Kathon CG Index. décimale : 668.5 Parfums et cosmétiques Résumé : Les résultats de l'étude comparative chimique et microbiologique sur des mélanges de différents conservateurs sont rapportés. Le but de cette recherche était de déceler s'il y avait une corrélation entre la stabilité chimique et l'activité microbiologique.
Les études ont été exécutées directement dans des émulsions cosmétiques utilisant divers mélanges de Prevan, Bronopol, Germall 115 et Kathon CG.
L'activité antimicrobienne a été évaluée avec E. coli, Ps. aeruginosa, Asp. niger, S. aureus en utilisant la diffusion en gélose (agar) sur une période de 400 jours.
Le comportement chimique des divers mélanges a été évalué par HPLC en phase inversée. Les échantillons d'émulsion ont été injectés après dilution avec un solvant THF/H2O.DOI : 10.1111/j.1467-2494.1988.tb00021.x En ligne : https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1111/j.1467-2494.1988.tb00021.x Format de la ressource électronique : Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=5205
in INTERNATIONAL JOURNAL OF COSMETIC SCIENCE > Vol. 10, N° 5 (10/1988) . - p. 231-239[article]Réservation
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Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité 003932 - Périodique Bibliothèque principale Documentaires Disponible Permalink
