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Nanocrystalline γ-Al2O3 thin film deposited by magnetron sputtering (MS) at low temperature / Adele Carradò in JOURNAL OF COATINGS TECHNOLOGY AND RESEARCH, Vol. 7, N° 4 (07/2010)

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inJOURNAL OF COATINGS TECHNOLOGY AND RESEARCH > Vol. 7, N° 4 (07/2010) . - p. 515-519

Titre :	Nanocrystalline γ-Al2O3 thin film deposited by magnetron sputtering (MS) at low temperature
Type de document :	texte imprimé
Auteurs :	Adele Carradò, Auteur ; Mohamed A. Taha, Auteur ; A. El-Mahallawy, Auteur
Année de publication :	2010
Article en page(s) :	p. 515-519
Note générale :	Bibliogr.
Langues :	Américain (ame)
Catégories :	Alumine Couches minces Dépôt en phase vapeur Dépôt par laser pulsé Magnétron Matériaux nanocristallins Pulvérisation cathodique Revêtement de surface
Tags :	Revêtement 'Couches minces' 'Pulvérisation par magnétron' 'Dépôt chimique en phase vapeur' physique 'Alumine nanocristallin' 'Basse température' laser pulsé'
Index. décimale :	667.9 Revêtements et enduits
DOI :	10.1007/s11998-009-9198-9
En ligne :	https://link.springer.com/content/pdf/10.1007%2Fs11998-009-9198-9.pdf
Format de la ressource électronique :	Pdf
Permalink :	https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=9775

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