Titre : |
Identification des filtres UV dans les produits cosmétiques par CCM et HPLC |
Type de document : |
texte imprimé |
Auteurs : |
M.-O. Masse, Auteur ; M. Herpol-Borremans, Auteur |
Année de publication : |
1991 |
Article en page(s) : |
p. 303-315 |
Note générale : |
Bibliogr. |
Langues : |
Anglais (eng) |
Tags : |
Filtres solaires Cosmétiques CCM HPLC |
Index. décimale : |
668.5 Parfums et cosmétiques |
Résumé : |
La méthode décrit l'identification des 22 filtres UV autorisés en Europe dans les produits cosmétiques (dir. 76/768 CEE, annexe VII, modifiée par la dir. 89/174 CEE) (Tableau I).
Douze filtres UV figurant à la 2e partie de l'annexe III (dir. 83/574 CEE) provisoirement autorisés en 1983, ont été abandonnés par l'industrie. Par conséquent, ils ont été supprimés de la liste des filtres UV qui peuvent contenir les produits cosmétiques (dir. 89/173 CEE). Cependant, la méthode décrit également l'identification de similitudes sur le plan des structures chimiques (Tableau I (suite)).
La mise en évidence des filtres UV dnas les produits finis est basée sur la chromatographie sur couche mince (CCM) et confirmée par chromatographie liquide à haute pression (HPLC/UV).
La CCM combine quatre systèmes différents et plusieurs réactifs de révélation : chromatographie d'absorption sur gel de silice et développement dans un solvant neutre, un solvant acide, un solvant alcalin, chromatographie en phase inverse sur silice greffée RP 18 et développement dans un mélange méthanol/eau.
Les résultats de ces essais d'orientation sont systématiquement confirmés par HPLC/UV en phase inverse dans un système éluant isocratique. Les acides et les sels élués avant ou avec le pic du solvant sont séparés dans un système à gradient d'élution à pH 3,5. Les temps de rétention sont déterminés par rapport au temps de rétention d'un standard interne convenablement choisi.
Plusieurs des filtres UV disponibles sur le marché des ingrédients cosmétiques sont des substances chimiquement impures ou des mélanges. L'identification de leurs constituants principaux par RMN et par GC/MS, fera l'objet de prochaines publications. |
DOI : |
10.1111/j.1467-2494.1991.tb00032.x |
En ligne : |
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1111/j.1467-2494.1991.tb00032.x |
Format de la ressource électronique : |
Pdf |
Permalink : |
https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=5146 |
in INTERNATIONAL JOURNAL OF COSMETIC SCIENCE > Vol. 13, N° 6 (12/1991) . - p. 303-315