Hybrid multilayer thin-film fabrication by atmospheric deposition process for enhancing the barrier performance / Srikanth Jagadeesan in JOURNAL OF COATINGS TECHNOLOGY AND RESEARCH, Vol. 15, N° 6 (11/2018)  

[article]  inJOURNAL OF COATINGS TECHNOLOGY AND RESEARCH > Vol. 15, N° 6 (11/2018) . - p. 1391-1399 Titre : Hybrid multilayer thin-film fabrication by atmospheric deposition process for enhancing the barrier performance Type de document : texte imprimé Auteurs : Srikanth Jagadeesan, Auteur ; Jong Hwan Lim, Auteur ; Kyung Hyun Choi ; Yang Hoi Doh Année de publication : 2018 Article en page(s) : p. 1391-1399 Note générale : Bibliogr. Langues : Américain (ame) Catégories : Couches minces multicouches Dépôt de couches minces atomiques Matériaux -- Propriétés barrières Morphologie (matériaux) Revêtements -- Propriétés mécaniques Revêtements -- Propriétés optiques Surfaces -- Analyse Traitement rouleau à rouleau Index. décimale : 667.9 Revêtements et enduits Résumé : In this paper, a multilayer barrier thin film, based on polyvinylidene difluoride (PVDF)–silicon dioxide (SiO2), has been fabricated on a PET substrate through a novel method of joint fabrication techniques. The inorganic SiO2 thin film was deposited using a roll-to-roll atmospheric atomic layer deposition system (R2R-AALD), while the organic PVDF layer was deposited on the surface of SiO2 through the electrohydrodynamic atomization (EHDA) technique. The multilayer barrier thin films exhibited very good surface morphology, chemical composition, and optical properties. The obtained values for arithmetic surface roughness and water contact angle of the as-developed multilayer barrier thin film were 3.88 nm and 125°, respectively. The total thickness of the multilayer barrier thin film was 520 nm with a high optical transmittance value (85–90%). The water vapor transmission rate (WVTR) of the barrier thin film was ~ 0.9 × 10−2 g m−2 day−1. This combination of dual fabrication techniques (R2R-AALD and EHDA) for the development of multilayer barrier thin films is promising for gas barrier applications. Note de contenu : - EXPERIMENTAL DETAILS : Materials and method - Roll-to-roll atmospheric atomic layer deposition of SiO2 - PVDF deposition through EHDA technique - Characterization - RESULTS AND DISCUSSION : Surface morphology - Compositional analysis - Optical properties - Barrier properties - Mechanical property DOI : 10.1007/s11998-018-0090-3 En ligne : https://link.springer.com/content/pdf/10.1007%2Fs11998-018-0090-3.pdf Format de la ressource électronique : Pdf Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=31356 [article]

Réservation

Réserver ce document

Exemplaires (1)

Code-barres	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité
20388	-	Périodique	Bibliothèque principale	Documentaires	Disponible

Low-temperature fabrication of TiO2 film on flexible substrate by atmospheric roll-to-roll CVD / Srikanth Jagadeesan in JOURNAL OF COATINGS TECHNOLOGY AND RESEARCH, Vol. 14, N° 3 (05/2017)  

[article]  inJOURNAL OF COATINGS TECHNOLOGY AND RESEARCH > Vol. 14, N° 3 (05/2017) . - p. 701-708 Titre : Low-temperature fabrication of TiO2 film on flexible substrate by atmospheric roll-to-roll CVD Type de document : texte imprimé Auteurs : Srikanth Jagadeesan, Auteur ; Yang Hoi Doh, Auteur ; Kyung-Hyun Choi, Auteur Année de publication : 2017 Article en page(s) : p. 701-708 Note générale : Bibliogr. Langues : Américain (ame) Catégories : Basses températures Couches minces Dépôt chimique en phase vapeur Dioxyde de titane Matières plastiques -- Revêtement:Matières plastiques -- Peinture Polyéthylène téréphtalate Traitement rouleau à rouleau Index. décimale : 667.9 Revêtements et enduits Résumé : Titanium dioxide (TiO2) thin film was fabricated using titanium isopropoxide as a precursor through an atmospheric low-temperature roll-to-roll chemical vapor deposition method. TiO2 was deposited on the PET substrate in the temperature range of room temperature to 100°C, and the working pressure was 740 Torr. The surface morphology of TiO2 thin film was analyzed by field emission scanning electron microscopy and a 2D surface profiler. The results revealed that the growth rate of TiO2 film was 31 nm/min at 100°C, and it also showed that the surface is uniform and smooth. Moreover, the lowest root mean square roughness (Rq) value of 1.87 nm was obtained for TiO2 film prepared at 100°C. The composition of TiO2 film was confirmed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis. The film showed very good chemical and optical properties while increasing the substrate deposition temperature. The UV–Vis spectroscopy analysis revealed that TiO2 films exhibited excellent optical transmittance, more than 91% observed in the visible region. Note de contenu : - Film growth - Surface morphology - Optical transmission - Compositional analysis - Electrical properties DOI : 10.1007/s11998-016-9888-z En ligne : https://link.springer.com/content/pdf/10.1007%2Fs11998-016-9888-z.pdf Format de la ressource électronique : Pdf Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=28578 [article]

Réservation

Réserver ce document

Exemplaires (1)

Code-barres	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité
18899	-	Périodique	Bibliothèque principale	Documentaires	Disponible

---

1 (1 - 2 / 2)