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Auteur J. S. Hall |
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Titre : Film critic : Analyzing the dewetting dynamics of thin epoxy films Type de document : texte imprimé Auteurs : R. K. Giunta, Auteur ; M. S. Kent, Auteur ; J. S. Hall, Auteur ; S. T. Hammerand, Auteur ; D. R. Tallant, Auteur ; M. J. Garcia, Auteur Année de publication : 2002 Article en page(s) : p. 32-33 et p. 37 Note générale : Bibliogr. Langues : Américain (ame) Catégories : Colles:Adhésifs
Couches minces
Démouillage (chimie des surfaces)
Epoxydes
Mouillage (chimie des surfaces)
SiliciumIndex. décimale : 668.3 Adhésifs et produits semblables Résumé : The equilibrium stability of thin adhesive films is of critical importance as adhesive bondlines approach micron-thicknesses. The dewetting behavior of an epoxy resin/crosslinker mixture on silicon was found to be related to the formation of a monomolecular absorbed film on the substrate surface. ATR-IR spectra of thin films of the epoxy mixture and its components are giving insight into the fundamental cause of the dewetting behavior of the epoxy.
The data suggests molecular architecture of symmetry plays an important role. A complete understanding of the wetting and dewetting behavior of thin adhesive films is integral in ensuring strong, void-free, micron-thick bondlines.Note de contenu : - Experimental
- Materials
- Procedures
- Results
- Wetting/dewetting behavior
- ToF-SIMS
- ATR-IR spectroscopyEn ligne : https://drive.google.com/file/d/1no1ammt5T64_myaVDwloD-M7hjx0Ef1-/view?usp=drive [...] Format de la ressource électronique : Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=19998
in ADHESIVES AGE > Vol. 45, N° 3 (03/2002) . - p. 32-33 et p. 37[article]Réservation
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