Fade resistance of lithographic inks : A new path forward - Part 1 / John Lind in PAINTINDIA, Vol. LV, N° 6 (06/2005)

[article]  inPAINTINDIA > Vol. LV, N° 6 (06/2005) . - p. 65-70 Titre : Fade resistance of lithographic inks : A new path forward - Part 1 Type de document : texte imprimé Auteurs : John Lind, Auteur ; Eric T. Everett, Auteur Année de publication : 2005 Article en page(s) : p. 65-70 Note générale : Bibliogr. Langues : Anglais (eng) Index. décimale : 667.9 Revêtements et enduits Note de contenu : - Real-world exposures in Florida & Arizona - Test program - Florida and Arizona exposures - Effect seasonal variation Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=11654 [article]

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