Nanocrystalline γ-Al2O3 thin film deposited by magnetron sputtering (MS) at low temperature / Adele Carradò in JOURNAL OF COATINGS TECHNOLOGY AND RESEARCH, Vol. 7, N° 4 (07/2010)  

[article]  inJOURNAL OF COATINGS TECHNOLOGY AND RESEARCH > Vol. 7, N° 4 (07/2010) . - p. 515-519 Titre : Nanocrystalline γ-Al2O3 thin film deposited by magnetron sputtering (MS) at low temperature Type de document : texte imprimé Auteurs : Adele Carradò, Auteur ; Mohamed A. Taha, Auteur ; A. El-Mahallawy, Auteur Année de publication : 2010 Article en page(s) : p. 515-519 Note générale : Bibliogr. Langues : Américain (ame) Catégories : Alumine Couches minces Dépôt en phase vapeur Dépôt par laser pulsé Magnétron Matériaux nanocristallins Pulvérisation cathodique Revêtement de surface Tags : Revêtement  'Couches  minces'  'Pulvérisation  par  magnétron'  'Dépôt  chimique  en  phase  vapeur'  physique  'Alumine  nanocristallin'  'Basse  température'  laser  pulsé' Index. décimale : 667.9 Revêtements et enduits DOI : 10.1007/s11998-009-9198-9 En ligne : https://link.springer.com/content/pdf/10.1007%2Fs11998-009-9198-9.pdf Format de la ressource électronique : Pdf Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=9775 [article]

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