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Fade resistance of lithographic inks : A new path forward - Part 1 / John Lind in PAINTINDIA, Vol. LV, N° 6 (06/2005)

Titre :	Fade resistance of lithographic inks : A new path forward - Part 1
Type de document :	texte imprimé
Auteurs :	John Lind, Auteur ; Eric T. Everett, Auteur
Année de publication :	2005
Article en page(s) :	p. 65-70
Note générale :	Bibliogr.
Langues :	Anglais (eng)
Index. décimale :	667.9 Revêtements et enduits
Note de contenu :	- Real-world exposures in Florida & Arizona - Test program - Florida and Arizona exposures - Effect seasonal variation
Permalink :	https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=11654

Code-barres	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité
003582	-	Périodique	Bibliothèque principale	Documentaires	Disponible