Titre : |
Les photoamorceurs et les monomères en polymérisation cationique |
Type de document : |
texte imprimé |
Auteurs : |
Marc J. M. Abadie, Auteur ; Zoubida Seghier, Auteur |
Année de publication : |
1994 |
Article en page(s) : |
p. 202-207 |
Note générale : |
Bibliogr. |
Langues : |
Anglais (eng) |
Index. décimale : |
667.9 Revêtements et enduits |
Résumé : |
Si l'industrie des couches minces (Thin Films) utilise préférentiellement les acrylates (ou méthacrylates), c'est essentiellement dû à la grande réactivité de ces fonctions vis à vis des mécanismes radicalaires mais aussi à la grande diversité des photoamorceurs de ce type existant sur le marché. Cependant, lorsque les réactions sont lentes, elles sont fortement affectées par l'oxygène de l'air qui a un effet inhibiteur marqué sur le processus de propagation des chaînes au détriment des réactions de peroxydation. Par ailleurs il existe certaines fonctions, en particulier les époxydes, qui par polyaddition ne sont sensibles qu'à un mécanisme cationique. D'où le développement depuis une quinzaine d'années d'amorceurs cationiques générant soit des acides de Lewis, soit des acides de Brönted. |
Note de contenu : |
- Introduction: Photochimie cationique
- Monomères - Les monomères vinyliques - Les monomères hétérocycliques
- Photoamorceurs - Les sels d'aryldiazonium - Les sels de diaryliodonium - Les sels de triarylsulfonium - Les sels de triarylsélénonium, de dialkylphénacylsufonium et dialkyl-4-hydroxyphénylsulfonium - Les sels de ferrocénium
- Photosensibilisateurs |
Permalink : |
https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=11247 |
in EUROPEAN COATINGS JOURNAL (ECJ) > N° 4/94 (04/1994) . - p. 202-207