| Titre : |
Photopolymérisation cationique de polybutadiène époxydé |
| Type de document : |
texte imprimé |
| Auteurs : |
Marc J. M. Abadie, Auteur ; Zoubida Seghier, Auteur |
| Année de publication : |
1994 |
| Article en page(s) : |
p. 264-272 |
| Note générale : |
Bibliogr. |
| Langues : |
Anglais (eng) |
| Index. décimale : |
667.9 Revêtements et enduits |
| Résumé : |
Dans un article précédent, on a présenté les différents types de photoamorceurs existant sur le marché industriel et susceptibles, après exposition au rayonnement d'une lampe UV, de générer des acides de Lewis ou de Brönsted. Ces acides peuvent provoquer par un mécanisme cationique la polymérisation de tout monomère sensible à ce type de mécanisme. Parmi ces monomères on peut citer les époxy et les vinyl éthers qui sont en fort développement dans le milieu industriel. Un des atouts des mécanismes cationiques par rapport aux radicalaires est d'être insensible à la présence d'oxygène. Par contre l'humidité pourra être un facteur réducteur dans les vitesses et les cinétiques de polymérisation. Nous présentons dans cet article un exemple d'optimisation d'une formulation photochimique d'un vernis à base de polybutadiène époxydé utilisé en vue d'encapsuler du polyacétylène, bien connu pour être sensible à l'oxygène de l'air. |
| Note de contenu : |
- Cinétique de photopolymérisation cationique des époxydes
- Protocole expérimental - Réactifs - Technique
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| Permalink : |
https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=11229 |
in EUROPEAN COATINGS JOURNAL (ECJ) > N° 5/94 (05/1994) . - p. 264-272
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Photopolymérisation cationique de polybutadiène époxydé in EUROPEAN COATINGS JOURNAL (ECJ), N° 5/94 (05/1994)
