Non linear optical phenomena / Shilpi Sanghi in PAINTINDIA, Vol. LV, N° 9 (09/2005)

[article]  inPAINTINDIA > Vol. LV, N° 9 (09/2005) . - p. 83-87 Titre : Non linear optical phenomena Type de document : texte imprimé Auteurs : Shilpi Sanghi, Auteur ; Atri Rungta, Auteur Année de publication : 2005 Article en page(s) : p. 83-87 Note générale : Bibliogr. Langues : Anglais (eng) Index. décimale : 667.9 Revêtements et enduits Note de contenu : - NLO polymers - NLO chromophores - Synthesis and properties - Crosslinkable second-order nonlinear optical polymers based on 2,3,4,5,6-pentafluorostyrene Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=11631 [article]

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Photochromism / Shilpi Sanghi in PAINTINDIA, Vol. LV, N° 12 (12/2005)

[article]  inPAINTINDIA > Vol. LV, N° 12 (12/2005) . - p. 73-90 Titre : Photochromism Type de document : texte imprimé Auteurs : Shilpi Sanghi, Auteur ; Atri Rungta, Auteur ; V. C. Malshe, Auteur Année de publication : 2005 Article en page(s) : p. 73-90 Note générale : Bibliogr. Langues : Anglais (eng) Index. décimale : 667.9 Revêtements et enduits Résumé : Photochromism is the reversible change in the absorption spectrum of a molecule on irradiation by light of certain wavelength. This phenomenon is observed in various compounds. Two types of photochromic polymer systems exist, those in which photo chrome is incorporated into a polymer binder in the form of a solid solution and the others inherently photochromic polymers. This article attempts to review the properties needed forany class of photo-chromic compounds and the mechanisms responsible for the photo chromic effect and also gives an account of the synthesis, structural and physical properties of fulgides, benzopyrans, naphthopyrans, spironaphthoxazines, spirobenzopyrans and their derivatives. The chiral photochromic Liquid Crystalline (LC) polymers are of great importance because they combine the properties of LC polymers and photochromic polymers. The article also covers the extensive applications of the photo chromic polymer systems in the field of ophthalmics, printing, textiles and in optical data storage. Note de contenu : - Spirobenzopyrans - Spironaphtoxazines - Benzo and naphtopyrans (chromenes) - Fulgides - Miscellaneous photochromic systems - Photochromic copolymers - Chiral photochromic liquid crystalline (LC) polymers - Applications of photochromic materials Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=11612 [article]

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Photoconductive polymers / Shilpi Sanghi in PAINTINDIA, N° annuel 2005 (2005)

[article]  inPAINTINDIA > N° annuel 2005 (2005) . - p. 191-199 Titre : Photoconductive polymers Type de document : texte imprimé Auteurs : Shilpi Sanghi, Auteur ; Atri Rungta, Auteur ; V. C. Malshe, Auteur Année de publication : 2005 Article en page(s) : p. 191-199 Note générale : Bibliogr. Langues : Anglais (eng) Index. décimale : 667.9 Revêtements et enduits Note de contenu : - SYNTHESIS OF NVK - POLYMERIZATION OF NVK : Charge transfer complexes - Inorganic photo conducting polymers - APPLICATIONS - LIGHT EMITTING DIODES Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=11983 [article]

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Photosensitive polymers / Shilpi Sanghi in PAINTINDIA, Vol. LV, N° 7 (07/2005)

[article]  inPAINTINDIA > Vol. LV, N° 7 (07/2005) . - p. 37-50 Titre : Photosensitive polymers Type de document : texte imprimé Auteurs : Shilpi Sanghi, Auteur ; Atri Rungta, Auteur Année de publication : 2005 Article en page(s) : p. 37-50 Note générale : Bibliogr. Langues : Anglais (eng) Index. décimale : 667.9 Revêtements et enduits Résumé : Photoresists are photosensitive polymers undergoing a change in chemical solubility on exposure to UV light. In positive photo resists, UV light exposure leads to scission and increases the solubility (e.g. Novolak) whilein negative photo resists it leads to cross linking of exposed areas thereby decreasing the solubility. Most of negative photo resists are based on cinnamatic derivatives of polymers having hydroxyl groups. Use of appropriate photosensitizers augments the photo resist property. In chemically amplified two or three component based photo resists, Photo acid generator (PAG) is used which acts as a catalyst. Polymers with pendant carboxyl groups with PAG give a negative tone photo resist. Copolymer containing (+) Bornyl Methacrylate and their Racemate is used as +ve tone photoresist. Substituted DOS and MNDDS resin form a positive photoresist. Photoresists are extensively used in lithographic applications. They are used for fabrication of solid devices to protect the underlying substrate for variety of purposes. Offset lithographic printing is used extensively. Various resins used for this process are discussed. Note de contenu : - Photoresist polymers - Negative photoresist - Chemical amplification - Polymers with pendant carboxyl group - Copolymers containing (+)-bornyl methacrylate and their racemate used as positive tome photoresist - Derivative of diphenylamine-4-diazonium salt (DDS) and resin (DDS resin) as negative photoresist - Offset lithographic printing - The offset lithographic process - Principle of offset printing - Resins - Natural resins - Rosin - Synthetic resins - Alkyd resins - Polystyrene resins and copolymers - Silicne resins - Hydrocarbon resins Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=11645 [article]

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Polymers in aviation / Shilpi Sanghi in PAINTINDIA, Vol. LVIII, N° 12 (12/2008)

[article]  inPAINTINDIA > Vol. LVIII, N° 12 (12/2008) . - p. 121-133 Titre : Polymers in aviation Type de document : texte imprimé Auteurs : Shilpi Sanghi, Auteur ; V. C. Malshe ; Atri Rungta, Auteur Année de publication : 2008 Article en page(s) : p. 121-133 Note générale : Bibliogr. Langues : Anglais (eng) Catégories : Avions -- Matériaux Composites à fibres de carbone Index. décimale : 668.9 Polymères Permalink : https://e-campus.itech.fr/pmb/opac_css/index.php?lvl=notice_display&id=6960 [article]

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Super absorbent polymers / Shilpi Sanghi in PAINTINDIA, Vol. LIX, N° 1 (01/2009)

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Super absorbent polymers - Part II / Shilpi Sanghi in PAINTINDIA, Vol. LIX, N° 3 (03/2009)

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